Рентгеновская пленка Agfa Structurix D4 - плёнка со сверх мелкозернистой структурой и высоким контрастом. Пленка AGFA Structurix D4 должна использоваться со свинцовыми экранами при рентгеновском или γ-излучениях.

Рентгеновская пленка AGFA Structurix D4 применяется для контроля композиционных материалов, литых деталей, высококачественных сварных швов. Рекомендована к применению в оборонной, атомной, аэрокосмической и авиационной промышленности.

Соответствие стандартам:

• EN 584-1;
• ISO 5655;
• ISO 7004.

Приводимые номограммы позволяют определить продолжительность экспозиции в зависимости от параметров источника излучения и условий съемки.

Изделие из стали (Fe):

Условия:

- рентгеновский аппарат постоянного потенциала;
- использованы свинцовые усиливающие экраны;
- расстояние от фокуса до пленки: 1 метр;
- оптическая плотность: D = 2;
- автоматическая проявка, G135/G335, 28°С, цикл 8 минут.

kV - напряжение на аноде;
mA - сила тока на катоде;
mm - толщина просвечиваемого изделия.

Изделие из алюминия (Al):

Условия:

- рентгеновский аппарат постоянного потенциала;
- расстояние от фокуса до пленки: 1 метр;
- оптическая плотность: D = 2;
- автоматическая проявка, G135/G335, 28°С, цикл 8 минут.

kV - напряжение на аноде;
mA - сила тока на катоде;
mm - толщина просвечиваемого изделия.

Селен 75:

Условия:

- изделие из стали (Fe);
- использованы свинцовые усиливающие экраны;
- расстояние от фокуса до пленки: 1 метр;
- оптическая плотность: D = 2.

GBq.h - активность радиоактивного источника в ГБк в час;
mm - толщина просвечиваемого изделия.

Иридиум 192:

Условия:

- изделие из стали (Fe);
- использованы свинцовые усиливающие экраны;
- расстояние от фокуса до пленки: 1 метр;
- оптическая плотность: D = 2.

GBq.h - активность радиоактивного источника в ГБк в час;
mm - толщина просвечиваемого изделия.

Кобальт 60:

Условия:

- изделие из стали (Fe);
- использованы свинцовые усиливающие экраны;
- расстояние от фокуса до пленки: 1 метр;
- оптическая плотность: D = 2.

GBq.h - активность радиоактивного источника в ГБк в час;
mm - толщина просвечиваемого изделия.

• NIF (упаковка в светонепроницаемом общем конверте без бумажных прокладок): 24x30 см (100 листов), 30x40 см (100 листов);
• FW (упаковка с бумажными прокладками): 10x24 см (100 листов), 10х40 см (100 листов), 10х48 см (100 листов), 18х24 см (100 листов), 24х30 см (100 листов), 30х40 см (100 листов);
• Pb VacuPac (листы пленки между свинцовыми экранами толщиной 0,027 мм, запаянные вакуумным способом в пластиковые пакеты, непроницаемые для света, воздуха и влаги): 6х24 см (100 листов), 6х48 см (100 листов), 9х12 см (100 листов), 10х24 см (100 листов), 10х40 см (100 листов), 10х48 см (100 листов), 30х40 см (100 листов);
• Pb Rollpac (пленка в рулоне со свинцовым экраном толщиной 0,027 мм в упаковке, непроницаемой для света влаги и масел): 70 мм х 90 м, 100 мм х 90 м;
• DW RPAC (рулонная, пленка в рулоне, в упаковке непроницаемой для света, влаги и масла): 70 мм х 90 м, 100 мм х 90 м.

• коробки с пленкой должны храниться на ребре вдали от химреактивов;
• оптимальная температура хранения t = 4°-24°С;
• относительная влажность 50-60%;
• радиоактивный фон менее 90 nGy/h;
• при температуре хранения ниже 4°С (в отличие от воздействия повышенной температуры) никаких необратимых изменений сенситометрических параметров не происходит. Однако после содержания фотопленки при пониженных температурах, коробки с пленкой следует вскрывать только после ее отогревания до рабочего диапазона температур (t = 4°-24°С). В противном случае, возможна конденсация влаги на фотослое, что может привести к изменению его однородности и склеиванию фотопленки;
• при условии правильного хранения фирма-изготовитель гарантирует сохранность продукции не менее 1,5 лет. Срок годности продукции указывается на упаковках.

Химико-фотографическая обработка радиографических пленок должна осуществляться в условиях неактиничного освещения, λ>520 нм, оливково-зеленый светофильтр (Agfa G7) или красный светофильтр (Agfa R1) или светодиодное освещение λ=590/λ=660 нм.

При изготовлении пленок AGFA применяется ультрасовременная технология «Split Antistress Layer», которая позволяет наносить на фотографическую эмульсию защитные слои с высокой степенью адгезии к фотослою, что обеспечивает высокую стойкость к давлению, истиранию, сгибам и царапинам.

Преимущества технологии «Split Antistress Layer»:

• отсутствие повреждений фотослоя в процессе упаковки и распаковки;
• отсутствие повреждений фотослоя в процессе получения снимка;
• подавление бликов и переотражений;
• антистатическая защита;
• отсутствие повреждений фотослоя в процессе химико-фотографической обработки;
• возможность использования роликовых проявочных машин (шероховатая поверхность защитного слоя облегчает достижение равномерности транспортировки пленки в проявочных машинах).

Compliance with standards:

• Certificate No. BAM/ZBA/023/00 dated 10/10/2010 issued by Federal Institute for Materials Research and Testing.

There are no reviews for this product yet.. Write the first review.